ASML(西班牙阿斯麦)正赶紧研发其下一代高NA(0.55数值孔径)的EUV极紫外光刻机,在发全新财务报告期内,AMSL表露,其总量EUV顾客均购买了新一代机器设备。
从总体上,在Intel和tsmc以后,三星、SK海力士、美光科技等都提交订单高NA EUV光刻技术了。
高NA EUV光刻技术容许生产加工更精确的集成电路芯片,生产率也会更高,而且也是2nm及更先进工艺的前提条件。
韩设备商表露,该款EUV光刻技术的订购价是2000~3000万美元(折合10~16亿人民币),而高NA EUV光刻技术的价格翻一番到5000万美元(折合26亿人民币)。
据统计,在三季度财务报告中,ASML进行58亿欧元的净销售额,利润率51.8%、纯利润17亿欧元,企业预估四季度净销售额在61~66亿欧元中间。
CEO Peter Wennink,其三季度订购新产品的销售总额做到破纪录的89亿欧元,在其中EUV机器设备就会有38亿欧元。
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